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189-2649-3933
硒化鋅(ZnSe)窗口鏡片在鍍膜后產生的雜質及合適的清洗方法如下:
鍍膜后產生的雜質:
1、有機污染物:
來源:鍍膜過程中的光刻膠殘留、油脂、指紋或環境有機物。
表現:表面油膜、斑點或霧狀殘留。
2、無機顆粒:
來源:鍍膜腔體內的粉塵、靶材濺射顆粒或搬運過程中的塵埃。
表現:附著在表面的微小顆?;騽澓邸?/span>
3、水漬或溶劑殘留:
來源:清洗過程中純水或溶劑未完全干燥,留下痕跡。
1、非接觸清洗,避免表面損傷:
硒化鋅是一種脆性較高的紅外光學材料,機械擦拭易導致劃痕或表面損傷。超聲波清洗通過高頻振動產生的空化效應,實現無接觸清洗,避免物理摩擦對鏡片的損害。
尤其適合ZnSe表面鍍膜(如增透膜)的保護,防止膜層脫落。
2、高效去除亞微米級污染物:
超聲波的空化作用可產生微米級氣泡爆破,能有效去除ZnSe表面的顆粒污染物(如拋光殘留物、灰塵)和有機污染物(如油脂、指紋)。
對于復雜結構(如鏡片邊緣或凹槽),超聲波能實現全方位清潔,避免手工清洗的盲區。
3、可控的清洗參數適配材料特性:
ZnSe對溫度和化學溶劑敏感(如易被酸性或堿性溶液腐蝕)。超聲波清洗可精確控制。
頻率(如40KHZ-100KHZ):高頻適合精密清洗,低頻用于頑固污染物。
溫度(通常≤50℃):避免高溫導致ZnSe熱應力或鍍膜失效。
清洗劑選擇:使用中性或專用光學清洗劑(如無水乙醇、去離子水),避免材料腐蝕。
4、均勻清洗、避免二次污染:
超聲波在清洗槽內分布均勻,確保ZnSe鏡片表面各部位清洗效果一致,避免人工操作的不穩定性。
清洗后可通過內置的多級漂洗和干燥系統(如氮氣吹干)減少水漬殘留,降低二次污染風險。
5、自動化與重復性
集成自動化流程(如機械臂搬運)適合批量處理,提高效率的同時保證每片ZnSe鏡片的清洗質量一致,這對高精度光學元件至關重要。
6、使用注意事項:
功率控制:過高的超聲波功率可能導致ZnSe表面微崩(空化沖擊),需根據鏡片厚度和鍍膜情況優化。
溶劑兼容性:避免使用含硫、氯的溶劑,防止與ZnSe發生化學反應。
威固特生產制作的光學超聲波清洗機的結構設計(如頻率可調、溫控系統、多槽流程)使其在清洗硒化鋅鏡片時兼具安全性、高效性和一致性,特別適合紅外光學元件的高標準清潔需求。